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イオンソース
グリッド付きRFイオンソース―システム
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イオンソース
特長
- 幅広く、均一な単一エネルギーイオンビームを生成
- 不活性環境および酸化環境用
- 4 グリッド（オプション）で、非常に高いコリメーションを実現
- 洗浄、エッチング、テクスチャリング、スパッタリングまたはエンハンスド蒸着などのアプリケーション
利点：
- コンパクト、経済的設計
- 長時間の使用に耐え、メンテナンスの必要性を抑えた設計
- メンテナンス時にアクセスしやすい、フィラメントおよびグリッド
特長：
- 低から中出力での操作用に水冷式
- 不活性環境および酸化環境用
- 4 グリッド（オプション）で、非常に高いコリメーションを実現
- 洗浄、エッチング、テクスチャリング、スパッタリングまたはエンハンスド蒸着などのアプリケーション
利点：
- コンパクト設計によりスペースを節約し、機械のコストを削減
- メンテナンス間隔が非常に長いため、長時間稼働が可能
- メンテナンス時にアクセスしやすい、フィラメントおよびグリッド
特長：
- 光学コーティングのように、長時間の連続した反応プロセス用に優れたソース
- 業界で唯一、フィラメントのないRFニュートライザ
- 4 グリッド（オプション）で、非常に高いコリメーションを実現
- 低から中出力の動作
利点：
- 長期間使用に耐え、低メンテナンスの設計
- バッチおよびロードロック生産プロセスに最適
- 柔軟な出力範囲で、幅広いプロセス設計および処理量要件をサポート
特長：
- 光学コーティングのように、長時間の連続した反応プロセス用に優れたソース
- 低から中出力の動作
- 不活性環境および酸化環境用
- 4 グリッド（オプション）で、非常に高いコリメーションを実現
利点：
- 長期間使用に耐え、低メンテナンスの設計
- 広く均一なイオンビーム蒸着、およびイオンアシストのアプリケーションに対応する設計
- 安定した効率的なプラズマ操作で、正確な制御が可能
特長：
- 極めて正確な高出力ビームの均一性
- パッキング濃度が改善され、酸化率が向上
- 多様なグリッドセット
- 多数のインターフェイス パッケージによる、既存の IAD システム用の簡単なアップグレード パスを用意
利点：
- 蒸着率が大幅に増加
- 優れた高薄膜品質および安定したプロセス動作
- 長期間使用に耐え、低メンテナンスの設計
- 既存のIADシステム用の費用効果的なアップグレードを促進するインターフェース設計
特長：
- 均一で大量プロセス用に優れたソース
- 低メンテナンス、長時間生産に適合
- 4 グリッド（オプション）で、非常に高いコリメーションを実現
利点：
- 長時間の連続操作用に設計
- より高いプロセス生産性が可能になり、薄膜製造コストを削減
- 多様なイオンビームアプリケーションに対応するフレキシブルなソース
特長：
- 低メンテナンス、長時間生産に適合
- 均一で大量プロセス用に優れたソース
- 業界で唯一、フィラメントのないRFニュートライザ
利点：
- 多様なイオンビームプロセスをサポート（プレ洗浄、エッチングなど）可能な柔軟性
- 長時間の連続した処理稼働で、信頼性の高い操作が可能
- より高いプロセス生産性が可能になり、薄膜製造コストを削減
特長：
- 長時間の連続生産用に設計
- 金属酸化物とその他の誘電体材料に関与する光学コーティングと薄膜に最適
- 低メンテナンスでの動作を目ざして、フィラメントのない、誘電的に結合された設計が特長
利点：
- プレ洗浄、エッチングおよびイオンビームアシスト蒸着など、多様なイオンビームプロセスをサポート
- 大量の自動操作環境で実績のある信頼性
- より高いプロセス生産性が可能になり、薄膜製造コストを削減
