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プロセス装置: イオン ビーム蒸着

SPECTOR 広範囲プラネタリー イオンビーム蒸着システム 新製品

SPECTOR 広範囲プラネタリー イオンビーム蒸着システム
スループットの向上と優れた材料均一性を実現

Veeco の SPECTOR 大面積プラネタリー イオンビーム蒸着システムは、比類なきイオインビーム フィルム品質と、eビーム システムに近いバッチサイズを兼ね備えています。  より広くなった全体の成膜部分に加えて、堅固な固定治具により直径 400mm、厚さ 100mm までのモノリシック基板の処理をサポートします。  Veeco は独自の 16cm RF 高出力蒸着ソースと超低汚濁 RF ニュートライザを組み込むことにより、高い蒸着率とフィルム品質を実現しました。  最大の化学量論的制御と基質の基板の プロセス中 プレクリーニングまたはエッチ サポートのために、本システムは 12cm RF アシスト イオンソースも備えています。

SPECTOR 大面積プラネタリー イオンビーム蒸着システム

  詳細情報
 
  • 業界をリードするスループットでのイオンビーム品質により、最低限の所有コストを実現
  • 400mmの軌道全体にわたる優れた材料均一性により、最大製品収量を提供
  • 大電流RFイオンソースにより、優れた蒸着率を提供
  • 大型基板およびパレットサポートにより、最大の製品柔軟性を提供

業界のリーダーによる世界規模の顧客サポート

Veeco はフォトニクス、HB LED、ソーラー、データ ストレージ、半導体、科学研究、産業の各分野のメーカーが使用するプロセス装置および計測ソリューションのリーダー企業です。  製造施設およびエンジニアリング施設はアリゾナ、カリフォルニア、コロラド、マサチューセッツ、ミネソタ、ニュージャージー、ニューヨークの各州に設けられています。  世界的な営業・サービス拠点は、米国、欧州、日本およびアジア太平洋地域の各地に開設されています。

  仕様の詳細については Veeco までお問い合わせください
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