プロセス装置
イオンビームエッチングシステム―システム

特長：

• 高デバイス収率に向けた、キャビティおよび浅いエッチングに最適
• RF350イオンソースおよびStaycool TECfixtureを使用して基板温度を低下
• Veecoの先端的なNEXUSイオンビームエッチングプラットフォームがベース

利点：

• プロセス制御を改善し、システムフットプリントを小規模化
• 従来ツールの生産性に適合する処理性能を実現
• ツールのダウンタイムを削減し、コストを抑制することにより、イオンソースのフィールドをアップグレード可能

特長：

• より厳しいエッチ深度制御要件を満たす設計
• NEXUSイオンソースは、優れたWIWおよび3Dエッチ均一性を提供します。
• NEXUSイオンビームエッチプラットフォームで、一般的技術と簡単に統合

利点：

• 低所有権コスト ツールセットを提供
• 新しいアプリケーションの市場導入を迅速化
• より効果的な資産の利用と、より高速なインストール

特長：

• 次世代のABS 段階およびキャビティ プロセッシングのエッチ深度制御を改善するよう設計
• 新しいNEXUS420イオンソースにより、 エッチ均一性とプロセス再現性を改善します。
• NEXUSイオンビームエッチプラットフォームで、一般的技術と簡単に統合

利点：

• 優れた均一性とエッチ深度制御で、より高いデバイス収率を実現
• 最高のスループットと小フットプリントによりCoO を低減できます。
• 新しいアプリケーションの市場導入を迅速化
• より効果的な資産の利用と、より高速なインストール

特長：

• 拡張基板冷却で、高出力操作
• 高スループットとフットプリントの縮小
• 一般NEXUSプラットフォーム上で結合可能

利点：

• ABSディープキャビティプロセッシングの生産性を改善
• 高エッチ率アプリケーションに優れたツール
• より低い所有コストとシステム利用率の改善

機能：

• 超薄ナノレベル酸化物およびトンネルバリア層の形成に対応した多用途性
• 自然酸化、リモートプラズマおよびイオンビーム酸化技術により、酸化プロセスをアプリケーションに対して最適化
• VeecoのNEXUSハードウェアおよびソフトウェア上で統合可能