イオンソース
マグネトロン ― システム

特長：

• スパッタリングソースは、円筒形ターゲットを使用、コーティング材料で基板を包囲
• 高蒸着率および優れたターゲット利用率を実現
• 3次元形状、ワイヤ、ファイバー、装飾的コーティングなどのアプリケーション

利点：

• 平板マグネトロンと比べ、より効率的な設計
• ダウンタイムの軽減と比較的安価なターゲット
• コーティングの難しい形状という課題に対する、費用対効果の高いソリューション