エピタキシャル装置
MOCVD システム―システム

特長：

• Uniform FlowFlange® テクノロジーによる、卓越した均一性と再現性
• メンテナンス コストの低い TurboDisc テクノロジーにより、最高のシステム可用性を実現

利点：

• 生産現場で実証済みの GaN MOCVD システム
• 完全な自動化およびメンテナンス後に1回のみの実行で完了する復元期間により、業界最高レベルの生産性

  特長：

• 実績ある Veeco K300 MOCVD システムとプラットフォームを共有―優れたスループットが得られる設計
• 先進のTurboDisc^® リアクタ技術、高速薄板流量、およびクリーンな操作により、 in-situベークが不要

  利点：

• GaN ベースの青色および緑色 LED と青色レーザーの量産で業界最高のスループットを実現
• 自動プラットフォームにより、資本コストを制御しつつ、HB-LED メーカーの収益拡大が可能
• 優れた生産収率、均一性および再現性

特長：

• メンテナンス コストの低いTurboDisc テクノロジーにより、最高のアップタイムを実現
• 真空 loadlock により、アイドルタイムを最小化し生産スループットを最大化
• RealTemp 200 温度調節機能により、精度の高いプロセス再現性を実現
• FlowFlange により、高生産収量のための優れた均一性および再現性を実現

利点：

• トリプル ジャンクション太陽電池で最大の容量
• トリプル ジャンクション太陽電池のメーカーに最高の利益を実現
• 卓越した均一性、高いスループットおよび並外れた生産収量
• メンテナンスが容易でアップグレードが可能なモジュール設計
• 高速なサーマル ランピングと高い成長率

  特長：

• マルチジャンクション III-V 集光型太陽電池、HB-LED、レーザーダイオード、pHEMT および HBT 量産向けの、業界をリードするスループット
• 低メンテナンスTurboDisc^®技術で、最高のアップタイムを実現
• 統合的な RealTemp^® 200技術に、直接ウエハ温度制御、高速気体スイッチ切替、および界面急峻性の厳密な制御が可能

  利点：

• HB-LEDおよび集光型太陽電池の量産に最適
• 優れた材料品質とプロセス効率に加えて、生産性も一段と向上
• HB-LED および III-V 集光型太陽電池への高い投資収益率

  特長：

• リアルタイム温度および成長率キャリブレーション用の、In-situモニタリングとユーザーフレンドリーな制御、モニタリング ソフトウェア パッケージ
• 先進の成長チャンバー加熱コンポーネント
• 気体ライン清浄器で、粒子状、蒸気および分子状汚染物を除去

  利点：

• 正確で的確な反応物のデリバリー、および厳密な均一性制御
• カセットエレベーターは、成長チャンバーへの移送のために、最大3つのウエハキャリアを保持
• スループットと精度を最大化し、ダウンタイムとメンテナンスを最小化
• 稼働の合間の高速加熱／冷却時間

特長：

• レーザー、面発光レーザー、およびInP-ベース材料の量産用に特別設計
• 先進の成長チャンバー加熱コンポーネント
• ウエハの着脱のための組込型グローブボックス

利点：

• 高スループット、低メンテナンス、低減された含有物リスク
• 反応物の精確なデリバリーと、均一性、層の厚さ、および界面急峻性の厳密な制御
• 最適化されたデバイス収率と再現性
• 稼働の合間の高速加熱/冷却時間

  特長：

• 分子線エピタキシー装置の材料の量産用に設計
• 垂直チェンバー構成を含む、次世代成長チャンバーおよび FlowFlange^® 技術が特徴
• 生産中のウエハ温度のIn-situモニターおよび制御が可能

  利点：

• 従来の大規模なMOCVD 生産では不可能だった、再現性および信頼性のレベル
• 優れた材料品質、厚さ、ドーピング、プロセス効率およびスループット
• 反応物のデリバリー、均一性、層の厚さ、および界面急峻性の的確な制御
• 汚染リスクの軽減