エピタキシャル装置: MOCVD システム

有機金属化学的気相成長装置（MOCVD）による大規模生産に、従来の装置では得られなかったプロセス制御および信頼性を得るには、Veeco E300 LDMをお使いください。 長波長、赤外線および可視レーザー、面発光レーザー、InPベース材料の量産を目的に設計されています。 E300LDMは、次世代成長チャンバおよびFlowFlange^®設計、他に例を見ないTurboDisc^®技術、In-situモニターとウエハ温度制御用RealTemp^®光学装置が特長です。 Result: 並はずれた材料品質およびプロセス効率。