エピタキシャル装置: MBEコンポーネント

Veeco Multi-Orifice CBr₄ガス流量制御システムでは、Veeco 低温ガス ソースとの併用により、CBr₄ ガスを炭素ドーパント ソースとして利用し、CBr₄ ガスの UHV 環境への導入を制御できます。 クローズドループ圧力制御および空気圧作動開閉バルブシリーズを使用することにより、システムはガス調整機能を最大化します。 インターロックの組み込みにより、装置の破損が防止され、バキュームシステムの最適な性能が保証されます。

また、このシステムには、ガスを原子状水素に変換して、H₂ ガスをVeeco原子状水素ソースに導入する、独立循環システムのオプションも含まれています。 この方法では、基板洗浄プロセス中に酸化物脱着温度を下げ、成膜プロセス中に界面活性剤として働き、原子表面移動度を高めます。

Veeco CBr₄ ガス流量制御システムには、次の2つの選択システムモードがあります： LOCALとREMOTE。 自動分子線エピタキシー装置（MBE）の REMOTE 状態には、システム成長を制御する ECS1 Molly バージョンの成長制御ソフトウェアが必要になります。