エピタキシャル装置
MBEコンポーネント―システム

特長：

• クローズドループ圧力制御
• 空気圧式のバルブ オン/オフ
• インターロック
• 2つの操作モード： ローカルとリモート
• Options to include independent plumbing to introduce H2 gas into an Atomic Hydrogen Source

利点：

• 最大CBr₄ガス制御により、装置の破損を防止し、最高のパフォーマンスを保証
• 原子表面のモビリティを高める

特長：

• アプリケーション固有の設定
• 統合された単一の設計による制御、インターロックおよびモニタリング
• オプションには、各回路のガス供給レギュレータおよびガス線とポンプ パージのための N₂ パージ ガス回路が含まれます

利点：

• 不活性で危険、かつ/または可燃性のガスの精密な供給
• Veeco Molly 成長制御ソフトウェアを使った、簡単なプロセス操作とモニタリング
• Molly ソフトウェアの ECS1 バージョンに統合されたすべての MBE システムと互換性があります

特長：

• 絶縁ゲートバルブを通じて、成長モジュールに直接接続するコンパクトユニット
• 研究開発/生産アプリケーションに対応する2つのモデル

利点：

• 実質的に、リン自動点火の危険を除去
• MBE システムに簡単に統合

特長：

• 白色ゾーン温度および磁束を安定化
• 従来および現行のすべてのVeecoバルブ付きクラッカーと互換可能

利点：

• ソース処理設定を簡素化
• 白色ゾーン温度が一定で、磁束が安定

特長：

• Veecoバルブ付きクラッカーと使用可能 
• サーボモーターの自動リモートコントロールまたはローカルマニュアルコントロールを、バルブの駆動に使用可能
• MBE 成長制御ソフトウェアと簡単に統合

利点：

• ソースニードルバルブにより、正確で再生可能な磁束制御を提供
• 各種アプリケーションにおいて費用効果的で柔軟
• 無人動作が可能

特長：

• Veeco 製マニピュレーターに使用可能
• 基板のポジショニングおよびローテーションに、独立したサーボ モーターの自動リモートコントロールまたはローカルでの手動制御を使用
• MBE 成長制御ソフトウェアと簡単に統合

利点：

• 精密、正確かつ再現性の高い基板のポジショニングとローテーションが可能
• クローズドループ制御とフィードバックのために基板マニピュレーターとの間で直接データをやり取り
• 無人動作が可能

特長：

• 新しいプラズマ自動調整ユニットで、手を使わずに操作可能
• 最適プラズマソースコンディションを自動調整および維持
• Veecoマニュアル チューナーを直接交換；既存の電源と連動
• 酸化物および窒化物へのアプリケーションに向けた、人気と実績のある材料提供システムがベース  

利点：

• 実験中のマニュアル調整は不要
• 操作状態（ガスフロー、出力レベルなど）が頻繁に変化するプロセスの自動化に最適
• 安定した成長に加えて、安定性、再生産性およびエネルギー効率を保証

特長：

• EpiTrend ‘常時オンの’ データ アーカイバおよびディスプレイで、現在と過去のデータを比較可能
• Liberator^TM 機能で、ログとデータをオフラインでレビュー可能
• レシピのチェックおよび診断で、セットアップと準備状態の検証が可能
• 非常にフレキシブルなロットシートとおよびランシートは簡単な構成で、モジュールからモジュールへの圧盤移転を自動制御
• Lot Managerは、ユーザー定義された成長レシピを起動可能

利点：

• システム使用可能時間と使いやすさを最大化
• プログラミングをより正確に制御
• Veecoの自動生産MBE システム制御用の、使いやすくて強固なプラットフォーム 
• 休止時間と製品スクラップを最小化
• 拡張可能、アップグレード可能

特長：

• 直流（DC）電源一式には、統合PID温度コントローラーが付属
• クローズド ループ温度または出力フィードバック、およびスタンドアロンまたはスタック構成用に設計
• すべてのVeeco噴散セルと互換可能
• すべての主な規制コンプライアンス基準で認定済
• 部品およびサービスに4年間の保証

利点：

• 幅広いアプリケーションで優れた信頼性
• MBEソースおよび基板ヒーターの、正確で信頼性の高い操作
• MBE ソースに優れた磁束安定性を提供
• 出力要件が単一電源が提供できる以上であるようなアプリケーションに対応するスタック構成

特長：

• MBE用のPBN（プラズマブリッジネトラライザ）るつぼ全種類がVeecoから入手可能
• Veeco PBN（プラズマ ブリッジ ネトラライザ）るつぼには、Veeco SUMO セルのためのユニークな製品が付属
• 二重フィラメント、改良フィラメント、標準フィラメント、低温、ドーパントおよびSUMOセルにおける使用に最適

利点：

• SUMOセルるつぼで、主源の通電容量が増加
• 実績と信頼のある多様なPBN（プラズマブリッジネトラライザ）るつぼは、 実質的にどのようなMBEアプリケーションにも使用可能

特長：

• 加熱ビューポートが、 MBE システムの光学ポートのコーティングを防止
• 光学卓上直流（DC）電源が使用可能
• 室温から500℃未満までの加熱範囲
• 7mの完全べーカブル ケーブルが付属

利点：

• in-situモニターを通じて 、結晶成長の連続的かつリアルタイムのフィードバック制御
• 従来の非加熱ビューポートより高い信頼度
• As4コーティング除去のためのシステム換気が不要
• 個々のMBE生産ニーズへの順応が簡単

特長：

• MBEシステムのビーム光束制御インテグラルシャッターの、高速動作（50 ms 開または閉）の代替品
• シャッターを湿らせ、衝撃と振動を軽減
• 動作はベローシールにより空気駆動

利点：

• 信頼性と耐性―100万サイクル以上に対応する設計
• 空気圧式アクチュエータにより、RHEED またはその他敏感な分析装置への干渉を防止
• 保護シャフトで、濃縮蒸発によるアクチューエータの詰まりを防止

特長：

• Veeco MBE噴散セル、ソースフランジおよびインテグラルシャッターのシャッター位置を正確に制御
• マニュアル（正面パネルスイッチ経由）またはリモート（TTL互換コンピュータ入力経由）制御を選択
• 気流分布システムと組み合わせて、シャッターの駆動が可能
• シャッターは2つの個別空気配管で作動
• 圧力の開閉は個別調整

利点：

• フレキシブルな設計―専門の研究所のニーズに適合するように設計可能
• さなVeeco MBEシステムに適用可能
• 電磁駆動、2方向マニフォールドにより圧縮空気配分が可能

特長：

• ユーザーが、MBEクオリティの蒸着機能をUHVリアクターに追加可能
• 様々なMBEソースと互換性があり、 多様なタイプのエピタキシャル膜を成長させる
• もっとも一般的なものを含め、幅広いスタイルで使用可能 （‘ソースと基板’間の 距離：4～10インチ/102mm～254mm）

利点：

• 研究所の機能を大幅に拡大可能
• さまざまなソースと基板間の距離に、ぴったり適合
• すべてのアプリケーションに適合するソースフランジが入手可能

特長：

• PBN構築ディフューザー プレート
• 丈夫なワイヤフィラメントが、多様な素材およびオプションの二重フィラメント設計で入手可能
• 最適化されたフィラメント表面エリアと熱遮蔽
• 代替的な成長環境のためのディフューザー素材 
• 一般的なMBE システムの直接交換品として入手可能

利点：

• 優れた熱均一性
• ホットスポット形成を防止
• 50％まで電力消費を削減
• クリーン操作
• 最高の信頼性と再生産性
• 腐食防止設計を利用可能

特長：

• コントローラーとMBE 噴散セルを接続するケーブルライン一式
• テフロン加工のヘビーゲージワイヤと、シールド付き熱電対の延長線で構成
• 無菌室での使用可能
• 200ºCまでべイク可能なケーブル

利点：

• 大きな通電容量と高い作動温度で、安全で信頼性のある操作
• 幅広いアプリケーションに適合
• ベークアウト前にMBEシステムからのケーブルの取り外しが不要

特長：

• 同じホルダーリング内に、基板の全部または一部を素早く（30 秒未満）取付
• 据え付けるワイヤまたはクリップがなく、基板が常に下向き
• 一塊のモリブデンから製作
• 部分ウエハおよびディフューザープレートを収容する構成を利用可能 

利点：

• 最小限の微粒子生成と、基板の環境への暴露の緩和
• 使いやすさと耐性を最大化
• 幅広いMBEシステムのニーズに順応可能