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エピタキシャル装置: MBEシステム

GEN10 自動研究開発 MBE システム 新製品

GEN10 自動研究開発 MBE システム
最大1x3インチのウエハ

実績のあるプラットホームにおける最も経済的で柔軟性のあるクラスタツール装置により、最高3つまでの構造化可能な、材料に特化した成長モジュールが可能になります。 これにより、有効なシステム利用が可能となり、複数の研究者が同時にシステムを使用し、無人で成膜およびキャリブレーションができるようになります。 これを Veeco コンポーネント技術に結び付けることが、MBE コミュニティがアプリケーションの如何にかかわらず GEN10 を選択する理由の重要な要素となっています。

GEN10 自動研究開発 MBE システム   詳細情報
 
  • 自動ウエハ移送により有効なシステム利用が可能となり、複数の研究者が同時にシステムを使用し、無人で成膜およびキャリブレーションを行うことが可能
  • 最大3つの成長モジュール追加への経済的なアップグレートパス
  • クラスターアーキテクチャの特性から、材料に特化した成長モジュールを設定することにより、異なる材料による成膜を同時に行うことが可能。
  • 大量生産MBE システムへの直接移行が可能
  仕様の詳細については Veeco までお問い合わせください
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