計測機器
エピタキシャル装置
プロセス装置
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エピタキシャル装置: MBEシステム

GEN 研究開発 MBE システム

GEN 研究開発 MBE システム
最大1x3インチのウエハ

この業界をリードする単一ウエハは、あらゆるMBEアプリケーション全体にわたって220を超えるインストレーションを世界的に展開し、MBE業界の中心を研究します。 この実績のあるシステムは、費用効果を維持しながら、優れた原料品質、起動時間および適応性を提供します。

GEN II MBE システム
  詳細情報
 
  • 世界でも優れた、トップクラスの単一ウエハシステム
  • モジュラー設計で、施設やアプリケーションに柔軟性を提供
  • 優れた材料品質と高アップタイム
  • 高品質、高純度、オプトエレクトロニクス材料の生成に最適
  • 多数のGaAsおよびAlGaAsの実績記録を保有
  仕様の詳細については Veeco までお問い合わせください
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