エピタキシャル装置: MBEシステム

GEN20™は、III-Vに構成可能な設計であり、eビーム技術の統合を必要とするアプリケーションなどの新材料を利用可能な極めて柔軟なツールです。 本システムは生産設計技術を取り入れており、研究室から研究室へ理想的な形で移動可能な、オプションのクラスタツール ウエハ移送システムがを実現します。