計測機器
エピタキシャル装置
プロセス装置
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エピタキシャル装置: MBEシステム

GEN200 エッジ プロダクション MBE システム

GEN200 エッジ プロダクション MBE システム
ウエハ1x8インチ、1x6インチ、4x4インチ、7x3インチ、14x2インチ

VeecoのGEN200 Edgeは、現在の市場で最も費用効果的でキャパシティの高いマルチ-4インチ生産MBEシステムです。 本装置は、ポンプレーザー、面発光レーザーおよびヘテロ接合バイポーラトランジスタ(HBTs)のような装置用のGaAsまたはInPベースのウエハ成膜において、優れたスループット、長い稼働時間、優秀なウエハ品質をお届けします。

GEN200エッジ生産 MBEシステム
  詳細情報
 
  • 最低コストで4X4インチエピウエハの成長を実現
  • モジュラーアーキテクチャで、 類似するMBEツールより大幅に小さいフットプリントを実現
  • 最大2つの成長モジュールが可能で、スループットの増加、または互換性のない材料の処理が可能
  • オプションのバルクヘッドを取り付けることにより、無菌室スペースが最適化
  • 業界でもっとも革新的で、信頼できるシステムハードウェア、ソースおよび成分を搭載
  仕様の詳細については Veeco までお問い合わせください
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