計測機器
エピタキシャル装置
プロセス装置
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エピタキシャル装置: MBEシステム

GEN2000 エッジ プロダクション MBE システム

GEN2000 エッジ プロダクション MBE システム
ウエハ 3x8インチ、7x6インチ、14x4インチ、23x3インチ

GEN2000は、より優れたスループット、より長い稼働時間、より小さいフットプリント、およびクラスターツール ウエハ処理を提供します。 ヘテロ接合バイポーラトランジスタ (HBTs)と高周波トランジスタ(pHEMTs)のようなワイヤレス テレコミュニケーション装置の大量生産、および所有コストが低く、マルチ-6インチ生産を必要とする新しいアプリケーションに最適です。

GEN2000 エッジ生産 MBE システム
  詳細情報
 
  • ウエハにつき、業界最低コストを実現
  • 優れた設計により、 類似するMBEツールより、40%~60%小さいフットプリントを実現
  • モジュラーアーキテクチャにより、最大2つの成長モジュールが可能で、スループットの増加、または互換性のない材料の処理が実現
  • 簡単なメンテナンスでアップタイムを最大化
  • オプションのバルクヘッドを取り付けることにより、無菌室スペースが最適化
  • 業界でもっとも革新的で、信頼できるシステムハードウェア、ソースおよび成分を搭載
  仕様の詳細については Veeco までお問い合わせください
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