計測機器
エピタキシャル装置
プロセス装置
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エピタキシャル装置: MBEコンポーネント

MBE 加熱ビュー ポート

MBE 加熱ビュー ポート
従来のビューポートにはできない制御とモニタリング

Veecoの加熱ビューポートは、分子線エピタキシー(MBE)装置内の光学ポートへのマテリアル堆積を防止し、従来のビューポートでは実現できなかったin-situモニター技術を使用した結晶成長の継続的でリアルタイムなフィードバック制御を可能にします。 加熱ビューポートにより、ヒ素原料から昇華し、従来のビューポートをコーティングするAs4を取り除くために、装置を換気する必要性がなくなります。

MBE 加熱ビューポート   詳細情報
 
  • Veeco加熱ビューポートは、in-situモニター技術を使用して、結晶成長の継続的でリアルタイムのフィードバック制御を可能にし、 MBE装置内の光学ポートへの堆積を防止
  • ヒ素ソースから昇華するAs4 が堆積する、通常の非加熱ビューポートより高い信頼性
  • ビューポートから堆積物を除去するための、システムの大気開放が不要
  • ビューポートは、室温から500°Cまで加熱可能
  • オプションの卓上直流電源には、ハーフラックまたはフルラックの取付キットが装備され、柔軟性を強化
  • 7mの完全ベーク可能ケーブルが電源に付属
  仕様の詳細については Veeco までお問い合わせください

 

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