計測機器
エピタキシャル装置
プロセス装置
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エピタキシャル装置: MBEコンポーネント

基板ヒーター

基板ヒーター
特定の温度および成長環境用に調整

Veecoは、特定の温度や成長条件用に設計された、アプリケーションに特化した基板ヒーターを提供しています。 標準的な設計は、PBN(プラズマブリッジネトラライザ)拡散プレートと、断面の均一性と効率的な電力消費を提供する、精緻なワイヤフィラメントを利用します。

MBE 基板ヒーター   詳細情報
 
  • 優れた熱均一性
  • 効率的な電力消費
  • クリーン操作
  • 複数のフィラメント素材が選択可能
  • アプリケーション別の設計と材料
  • 酸素およびアンモニア環境下での耐用年数の延長
  • デュアルフィラメントヒーターを利用可能
 

仕様の詳細については Veeco までお問い合わせください

データシート

  • アンモニア耐性ソース/ヒーター
    低解像度 【49 KB PDF版】
  • 酸化耐性ソース/ヒーター
    低解像度 【48 KB PDF版】

 

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