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プロセス装置: イオンビームエッチング

NEXUS IBE-350Si イオンビームエッチングシステム 新製品

NEXUS IBE-350Siイオン ビーム エッチング システム
次世代のエッチプラットフォームへの、コスト効果的なアップグレート

VeecoのNEXUS IBE-350Siイオンビームエッチングシステムで、改良されたプロセス制御、小さな設置面積およびフィールドアップグレード可能な設計を得ることができます。 改善された本システムは、より信頼性の高いプラットフォーム上で、同じイオンソース、グリッド、[fixtures]、ソースから基板への配列を、従来のRF350Sツールとして利用します。

NEXUS IBE-350Si イオンビームエッチングシステム
  詳細情報
 
  • プロセス性能は、信頼性の向上により、従来のRF-350Sツールに適合
  • 高デバイス収率に向けた、キャビティおよび浅いエッチングに最適
  • RF350イオンソースおよびStaycool TECfixtureを使用して基板温度を低下
  • NEXUS-420イオンソースにアップグレート可能なフィールド
  仕様の詳細については Veeco までお問い合わせください

 

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