プロセス装置: イオンビーム蒸着

NEXUS IBD イオンビーム蒸着システム

ハードバイアス、絶縁層およびセンサ‐スタック蒸着に最適

Veeco第3世代NEXUS イオンビーム蒸着（IBD システムは、 2 のセンサーの歩留まり向上と将来のTFMH デバイス製造の厳しいご要求にお答えします。

NEXUS IBD イオンビーム蒸着システム		詳細情報

電流CIPからアドバンストCPP装置まで、幅広い装置に対応 MRAMアプリケーションおよびGMRと TMR薄膜磁気ヘッドに最適すべてのコリメーテド蒸着へのアプリケーションに対する、 CD 制御を改善蒸着柱の対称口から鋭い取り出しアングルプラットフォームは、PVD、IBE およびその他技術と簡単に統合されます。		仕様の詳細については Veeco までお問い合わせください