プロセス装置: イオン ビーム蒸着

VeecoのNEXUS 低欠陥密度イオンビーム蒸着LDD-IBD） システムは、データストレージと化合物半導体デバイス用に、超極薄単一層および多層膜被覆を蒸着します。 特に低微粒子蒸着処理用に設計されており、理想的な薄膜技術プラットホームを、極端紫外線（EUV）マスクなどの、位相偏位マスクと次世代のリソグラフィーへのアプリケーションに提供します。