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プロセス装置: 物理蒸着

NEXUS TAMR 物理蒸着システム

NEXUS TAMR 物理蒸着システム
次世代のデータ ストレージを可能にする製品

The Veeco NEXUS TAMR PVD System deposits critical low-loss films that make the optical waveguide of the laser. It features heated deposition capability of the oxide films in "dielectric" and "metal modes" of operation. These innovations enable high deposition rates and low optical loss tantalum pentoxide (Ta2O5) and aluminum oxide (Al2O3) films. The Veeco TAMR PVD System leverages Veeco's production-proven high rate reactive alumina platform and proprietary process control.

NEXUS TAMR 物理蒸着システム
  詳細情報
 
  • 比類のない信頼性と均一性が、プロセス収率の向上を支援
  • 高処理量とより長いアップタイムにより、所有コストを削減
  • NEXUS プラットフォームにより、イオンビーム蒸着、イオンビームエッチ、原子層堆積および反応スパッタリングなど、幅広いVeeco 技術と統合
  仕様の詳細については Veeco までお問い合わせください
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