プロセス装置
PVD蒸着― システム

特長：

• Veeco ならではのプロセスが、TAMR で使用される熱源を伝導する読み取り-書き込みヘッドに、重要な光学構造を蒸着します。
• 「誘電体」および操作の「金属モード」で、酸化フィルムの熱蒸着を実現
• 製造でその威力が証明されている高レートの反応アルミナ プラットフォームと Veeco 専有のプロセス制御
• NEXUS プラットフォームにより、イオンビーム蒸着、イオンビームエッチ、原子層堆積および反応スパッタリングなど、幅広いVeeco 技術と統合

利点：

• 次世代のデータ ストレージを可能にする製品
• 面密度の大きな進歩
• 高い蒸着レートと低い光学損失タンタル五酸化物（Ta2O5）および酸化アルミニウム（Al2O3）フィルム

特長：

• プロセスおよび生産ニーズに対応するように簡単に構成できます。
• 直径3インチ～8インチまでの広い範囲のウエハサイズに適合
• 磁性体とデータストレージ セクターでの様々な用途に合わせた設計
• NEXUS のハードウェアおよびソフトウェアのプラットフォーム上で簡単に統合可能

利点：

• 単純性、信頼性、および高度な蒸着システム性能を結合
• モジュラー プラットフォームにより、トレーニング、メンテナンス要件、および予備部品のストックを簡素化
• カソード、ウエハチャックなどのアドオンモジュールにより、簡単に再構成できる設計

特長：

• イオン アシスト蒸着法の、改善された柔軟性とプロセス調整能力
• 優れた厚さ均一性と、ターゲット毒性のないウエハ対ウエハの再現性
• アークフリー、ピンホールフリーの膜を提供

利点：

• 厚口オーバーコートアプリケーションの高速蒸着要件に対応
• 他者を4倍上回る均一性がありとまた高い蒸着再現性があります。
• 最短の取り付け時間と、NEXUSプラットフォームに種々の技術をまとめる能力

特長：

• 統合されたシステムは広範囲のアプリケーションを提供し、200mmに対応 
• 種々の蒸着モードを持つ高い処理能力
• NEXUSの共通ハードウェアおよびソフトウェア プラットフォーム

利点：

• 比類のない信頼性と均一性が、プロセス収率の向上を支援
• 高処理量とより長いアップタイムにより、所有コストを削減
• Veecoの幅広い技術と簡単で費用効果的に統合