計測機器
エピタキシャル装置
プロセス装置
Solutions for a nanoscale world.™

プロセス装置: 物理蒸着

NEXUS PVD-HR システム

NEXUS PVD-HRシステム
高い均一性と再現性で高速アルミナ蒸着ができます。

Veecoの高速アルミナNEXUS PVD-HR蒸着システム は、優れた膜厚均一性と、ターゲット腐食のない高い再現性のバッチ蒸着プロセスが可能です。 NEXUS PVD-HR アークフリーとピンホールフリーの膜を形成できるよう設計され、また小フットプリントですので低CoOに貢献します。

NEXUS PVD-HR PVD 蒸着システム
  詳細情報
 
  • 他者を4倍上回る均一性がありとまた高い蒸着再現性があります。
  • 業界をリードする6 x 8インチウエハの処理の能力があります。
  • プロセスニーズに柔軟性に対応するために200mm対応の設計です。
  • ウエハ回転機構の工夫により高いPVD蒸着スループットを提供し、CoOに貢献します。
  • 世界トップクラスのNEXUSプラットフォームにより、イオンビーム蒸着、イオンビームエッチング、反応性スパッタリングなど、幅広いVeecoの技術を1システムに集約できます。
  仕様の詳細については Veeco までお問い合わせください

 

 

Powered by Translations.com GlobalLink OneLink Software