NEXUS PVD-HR システム
高い均一性と再現性で高速アルミナ蒸着ができます。
Veecoの高速アルミナNEXUS PVD-HR蒸着システム は、優れた膜厚均一性と、ターゲット腐食のない高い再現性のバッチ蒸着プロセスが可能です。 NEXUS PVD-HR アークフリーとピンホールフリーの膜を形成できるよう設計され、また小フットプリントですので低CoOに貢献します。
NEXUS PVD-HR PVD 蒸着システム
|
|
詳細情報 |
| |
- 他者を4倍上回る均一性がありとまた高い蒸着再現性があります。
- 業界をリードする6 x 8インチウエハの処理の能力があります。
- プロセスニーズに柔軟性に対応するために200mm対応の設計です。
- ウエハ回転機構の工夫により高いPVD蒸着スループットを提供し、CoOに貢献します。
- 世界トップクラスのNEXUSプラットフォームにより、イオンビーム蒸着、イオンビームエッチング、反応性スパッタリングなど、幅広いVeecoの技術を1システムに集約できます。
|
|
仕様の詳細については Veeco までお問い合わせください
|
アプリケーション注意事項のPDFファイルを閲覧・ダウンロードするには、下のタイトルを選択してください。 PDF版が見られない場合は、
Adobe Readerをダウンロードしてください。