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プロセス装置: 物理蒸着

NEXUS PVDi システム

NEXUS PVDi システム
柔軟な蒸着プラットフォームで多様なアプリケーションに対応

Veecoの単一ターゲット NEXUS PVDi 物理蒸着システムは、多様な薄膜蒸着アプリケーションに最大限の柔軟性を提供します。 NEXUS PVDiは200mmが可能で、先進のプロセス機能、卓越した均一性、多様な蒸着モードを特長とします。

NEXUS PVDi 物理蒸着システム
  詳細情報
 
  • 比類のない信頼性と均一性が、プロセス収率の向上を支援
  • 高処理量とより長いアップタイムにより、所有コストを削減
  • NEXUS プラットフォームにより、イオンビーム蒸着、イオンビームエッチ、原子層堆積および反応スパッタリングなど、幅広いVeeco 技術と統合
  仕様の詳細については Veeco までお問い合わせください
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