NEXUS IBE-420Si イオンビーム エッチング システム

多様なエネルギーと処理角度にわたって、優れた均一性

NEXUS® IBE-420Si™ イオンビームエッチングシステムは高いスライダー製造歩留まりと優れたイオンビームエッチングの均一性を実現します。NEXUS IBE-420Si システムは多様なエネルギーと処理角度にわたって卓越した均一性を提供し、次世代の浮上面ステップ・キャビティ プロセッシングのエッチ深 さの制御に最適です。

• 均一性に優れ、 エッチ深さ制御を改善しました。
• 最高のスループットと小フットプリントによりCoO を低減できます。
• 世界トップクラスの NEXUS ハードウェアとソフトウェアプラットフォームと簡単に ドック増設できます。
• 新しいNEXUS420イオンソースにより、 エッチ均一性とプロセス再現性を改善します。
• プロセスでの適性を確認済みの動作であれば、RF350 ソースの利用も可能です。
• NEXUS 420 イオンソースにコスト効果的にフィールド・アップグレード可能なプラットフォーム です。