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比類のない信頼性と最低コストでのスループットTurboDisc® K475 As/P MOCVD(有機金属化学気相成長)システムは、化合物選択性半導体装置の最高水準の大量生産を可能にする同クラス最高のツールです。
K475 は、(GaN LED 市場のリーダーとしての) Veeco の長年にわたる技術的専門知識を活用するとともに、リアクター設計の必須要素を積極的に統合することによって、稼働時間とスループットを最大化する構成となっています。このシステムは、調整可能な FlowFlange®、先進の RealTemp® 200 温度制御、高水準の TurboDisc 高速層流のほか、一定の真空以下の状態を維持することにより非稼働時間を最小限に抑える統合的なシステム負荷ロックなどで構成されています。いずれもコスト削減の鍵を握る技術であって、K475 の効率化に貢献します。 Veeco: いつでも生産可能CPV 技術は、複数の実装規模の設備 (1 MW 以下) を備えて急速に発展しており、直達日射量 (DNI) が高い地域では、多数のより大規模なプロジェクトが世界中で本格化しています。As/P MOCVD は、CPV 装置に必須の化合物半導体層の構成において選択可能な技術となっています。同クラス最高の MOCVD 装置を供給する Veeco は、有用で必要不可欠な As/P MOCVD 技術を提供してトリプル ジャンクション太陽電池の生産コストを低減するとともに、比類のない信頼性と最低コストでのスループットにより各メーカーがモジュール システムにおける生産を容易に実現できるようにします。
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TurboDisc K475 をぜひご検討ください
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