NEXUS CVD システム

次世代型 TFMH の実現を可能にするコンフォーマル金属成膜プロセス

400 Gb/in2 を超える面密度を持つ薄膜磁気ヘッドを実現します。

Veeco 社は、新世代の TFMH を実現するコンフォーマル金属成膜プロセスに対する市場のニーズに応えて、NEXUS CVD 化学的気相成長システムの開発に成功しました。 NEXUS CVD は、データ ストレージ メーカーの技術ロードマップに沿って Veeco 社が開発を進めていることを示す良い例です。 NEXUS ファミリの 1 つであるこのシステムは、共通のハードウェアとソフトウェアのプラットフォーム上で、Veeco のイオン ビーム エッチング、イオン ビーム蒸着、物理的気相成長などの補完的技術と統合できます。