お客様に最適の PVD システムをお選びください。
NEXUS TAMR PVD システム- NEXUS PVD-1システム
NEXUS PVD-HR システム
NEXUS PVDi システム
CYCLONE 物理的気相成長システム
物理的気相成長システムの特性と利点
特長：
- Veeco ならではのプロセスが、TAMR で使用される熱源を伝導する読み取り-書き込みヘッドに、重要な光学構造を蒸着します。
- 「誘電体」および操作の「金属モード」で、酸化フィルムの熱蒸着を実現
- 製造でその威力が証明されている高レートの反応アルミナ プラットフォームと Veeco 専有のプロセス制御
- NEXUS プラットフォームにより、イオンビーム蒸着、イオンビームエッチ、原子層堆積および反応スパッタリングなど、幅広いVeeco 技術と統合
利点：
- 次世代のデータ ストレージを可能にする製品
- 面密度の大きな進歩
- 高い蒸着レートと低い光学損失タンタル五酸化物（Ta2O5）および酸化アルミニウム（Al2O3）フィルム
特長：
- プロセスおよび生産ニーズに対応するように簡単に構成できます。
- 直径3インチ～8インチまでの広い範囲のウエハサイズに適合
- 磁性体とデータストレージ セクターでの様々な用途に合わせた設計
- NEXUS のハードウェアおよびソフトウェアのプラットフォーム上で簡単に統合可能
利点：
- 単純性、信頼性、および高度な蒸着システム性能を結合
- モジュラー プラットフォームにより、トレーニング、メンテナンス要件、および予備部品のストックを簡素化
- カソード、ウエハチャックなどのアドオンモジュールにより、簡単に再構成できる設計
特長：
- イオン アシスト蒸着法の、改善された柔軟性とプロセス調整能力
- 優れた厚さ均一性と、ターゲット毒性のないウエハ対ウエハの再現性
- アークフリー、ピンホールフリーの膜を提供
利点：
- 厚口オーバーコートアプリケーションの高速蒸着要件に対応
- 他者を4倍上回る均一性がありとまた高い蒸着再現性があります。
- 最短の取り付け時間と、NEXUSプラットフォームに種々の技術をまとめる能力
特長：
- 統合されたシステムは広範囲のアプリケーションを提供し、200mmに対応
- 種々の蒸着モードを持つ高い処理能力
- NEXUSの共通ハードウェアおよびソフトウェア プラットフォーム
利点：
- 比類のない信頼性と均一性が、プロセス収率の向上を支援
- 高処理量とより長いアップタイムにより、所有コストを削減
- Veecoの幅広い技術と簡単で費用効果的に統合
特長：
- 複雑な各種形状に最適
- 3 次元物体の複雑な回転が不要
- 効率的で優れた均一性をもたらすスパッタリング ソース
- 最新のプロセス制御プラットフォーム
利点：
- ほぼすべての 3 次元薄膜用途のニーズに対応
- 優れた膜厚制御
- 厳しい特性仕様を満たすテレコム装置
- 高エネルギーイオンビーム蒸着プロセスにより、より良いパッキング濃度と低ピンホール濃度を実現