NEXUS PVD-HR システム

高い均一性と再現性で高速アルミナ蒸着ができます。

Veecoの高速アルミナNEXUS PVD-HR蒸着システム は、優れた膜厚均一性と、ターゲット腐食のない高い再現性のバッチ蒸着プロセスが可能です。NEXUS PVD-HR アークフリーとピンホールフリーの膜を形成できるよう設計され、また小フットプリントですので低CoOに貢献します。

• 他者を4倍上回る均一性がありとまた高い蒸着再現性があります。
• 業界をリードする6 x 8インチウエハの処理の能力があります。
• プロセスニーズに柔軟性に対応するために200mm対応の設計です。
• ウエハ回転機構の工夫により高いPVD蒸着スループットを提供し、CoOに貢献します。
• 世界トップクラスのNEXUSプラットフォームにより、イオンビーム蒸着、イオンビームエッチング、反応性スパッタリングなど、幅広いVeecoの技術を１システムに集約できます。